我国直流电弧等离子体喷射金刚石膜制备技术历史、现状与趋势

来源期刊：超硬材料工程2014年第2期

论文作者：吕反修

文章页码：18 - 25

关键词：高功率直流电弧等离子体喷射;金刚石膜;产业化;综述;

摘    要：在热丝CVD(HFCVD),微波等离子体CVD(MWCVD),直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)和燃烧火焰沉积(Flame Deposition)四种应用最广泛的金刚石膜制备方法中,DC Arc Plasma Jet被认为是最有工业化应用前景的技术。在我国863计划的大力支持下,北京科技大学和河北省科学院紧密合作,采用具有我国独立知识产权和特色的磁控长通道旋转电弧等离子体炬和半封闭式气体循环技术,于1995年底研制成功了100千瓦级高功率DC Arc Plasma Jet金刚石膜沉积系统。目前的技术水平已可制备和工业化生产包括工具级,热沉级和光学级大面积高质量金刚石自支撑膜,并已在国内外市场销售。文章对我国DC Arc Plasma Jet技术的历史、现状和发展趋势进行了综述。