氧化钒薄膜的制备技术及特性研究
来源期刊：材料导报2007年增刊第1期
论文作者：李建峰 蒋亚东 王涛 吴志明 魏雄邦 许庆宪
关键词：氧化钒薄膜; 磁控溅射; 溅射电压;
摘 要：采用直流反应磁控溅射法,通过精确控制反应溅射电压优化了氧化钒薄膜的制备工艺.对制备的氧化钒薄膜,利用四探针测试仪检测了薄膜的方阻和方阻温度系数,用X射线光电子能谱(XPS)仪和原子力显微镜(AFM)对薄膜的钒氧原子比和薄膜的微观形貌分别进行了分析和表征.实验结果表明,利用精确控制反应溅射电压法生长出的氧化钒薄膜的性能得到了进一步的提高.
李建峰1，蒋亚东1，王涛1，吴志明1，魏雄邦1，许庆宪1
(1.电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054)
摘要:采用直流反应磁控溅射法,通过精确控制反应溅射电压优化了氧化钒薄膜的制备工艺.对制备的氧化钒薄膜,利用四探针测试仪检测了薄膜的方阻和方阻温度系数,用X射线光电子能谱(XPS)仪和原子力显微镜(AFM)对薄膜的钒氧原子比和薄膜的微观形貌分别进行了分析和表征.实验结果表明,利用精确控制反应溅射电压法生长出的氧化钒薄膜的性能得到了进一步的提高.
关键词:氧化钒薄膜; 磁控溅射; 溅射电压;
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