电子束物理气相沉积技术研究进展
来源期刊:材料导报2012年第S2期
论文作者:张传鑫 宋广平 孙跃 赵轶杰 赫晓东
文章页码:124 - 272
关键词:电子束物理气相沉积;离子束辅助沉积;等离子辅助沉积;
摘 要:电子束物理气相沉积是真空蒸发技术的一种,具有蒸发速率高和无污染的特点,目前广泛应用于材料表面涂层的制备。将离子束辅助和等离子辅助与电子束物理气相沉积技术相结合,可以提高蒸发粒子入射能量和扩散能力,改善由于电子束物理气相沉积工艺本身存在阴影效应和扩散能力低而引起的沉积材料的不致密等不足。介绍了电子束物理气相沉积技术的概况,并展望了该技术的未来应用及发展前景。
张传鑫1,宋广平2,孙跃2,赵轶杰2,赫晓东2
1. 上海微小卫星工程中心2. 哈尔滨工业大学特种环境复合材料技术国防科技重点实验室
摘 要:电子束物理气相沉积是真空蒸发技术的一种,具有蒸发速率高和无污染的特点,目前广泛应用于材料表面涂层的制备。将离子束辅助和等离子辅助与电子束物理气相沉积技术相结合,可以提高蒸发粒子入射能量和扩散能力,改善由于电子束物理气相沉积工艺本身存在阴影效应和扩散能力低而引起的沉积材料的不致密等不足。介绍了电子束物理气相沉积技术的概况,并展望了该技术的未来应用及发展前景。
关键词:电子束物理气相沉积;离子束辅助沉积;等离子辅助沉积;