一种应用于光信息存储介质材料的吡啶偶氮苯液晶化合物的制备与表征
来源期刊:材料科学与工程学报2013年第6期
论文作者:方晶 黄卓婷 周云 施燕琴 王旭 陈思
文章页码:846 - 851
关键词:吡啶偶氮苯;光响应;液晶;信息存储;
摘 要:本文设计合成了一种以吡啶偶氮苯为光致生色基团的新型液晶化合物(PALC),其化学结构、液晶相转变和液晶态织构分别采用1 H-NMR、DSC和POM进行了表征,证明该化合物在很宽的温度范围内呈典型的向列相织构。且通过测试该物质的乙酸乙酯溶液(3×10-5 mol/L)先后经365nm紫外光和455nm可见光照射下的UV-vis吸收光谱的变化,对所合成液晶化合物的光异构化行为进行了详细研究。研究表明,在365nm紫外光照射下化合物发生由反式到顺式的光异构反应;随后在455nm可见光照射下发生由顺式到反式的光异构回复反应,且在5s内便可恢复到初始状态,而此回复过程在暗箱中热弛豫12h也未见明显发生。并且当样品经过5次紫外光和可见光循环照射后,在326nm最大吸收峰值处未见吸收上的损失。综上性能表明所合成的吡啶偶氮苯液晶化合物可用于制备具有良好热稳定性、快速光响应、高抗疲劳性的可擦除液晶光信息存储介质材料。
方晶,黄卓婷,周云,施燕琴,王旭,陈思
浙江工业大学化学工程与材料学院
摘 要:本文设计合成了一种以吡啶偶氮苯为光致生色基团的新型液晶化合物(PALC),其化学结构、液晶相转变和液晶态织构分别采用1 H-NMR、DSC和POM进行了表征,证明该化合物在很宽的温度范围内呈典型的向列相织构。且通过测试该物质的乙酸乙酯溶液(3×10-5 mol/L)先后经365nm紫外光和455nm可见光照射下的UV-vis吸收光谱的变化,对所合成液晶化合物的光异构化行为进行了详细研究。研究表明,在365nm紫外光照射下化合物发生由反式到顺式的光异构反应;随后在455nm可见光照射下发生由顺式到反式的光异构回复反应,且在5s内便可恢复到初始状态,而此回复过程在暗箱中热弛豫12h也未见明显发生。并且当样品经过5次紫外光和可见光循环照射后,在326nm最大吸收峰值处未见吸收上的损失。综上性能表明所合成的吡啶偶氮苯液晶化合物可用于制备具有良好热稳定性、快速光响应、高抗疲劳性的可擦除液晶光信息存储介质材料。
关键词:吡啶偶氮苯;光响应;液晶;信息存储;