金刚石膜在多孔硅发光中的应用
来源期刊:功能材料与器件学报2001年第3期
论文作者:史伟民 夏义本 方志军 王林军 居建华 张伟丽 范轶敏
关键词:多孔硅; 钝化; 光致发光; 金刚石膜; MPCVD;
摘 要:采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法成功地在多孔硅上沉积出均匀、致密的金刚石膜。光致发光测量表明,金刚石膜可以有效稳定多孔硅的发光波长和发光强度,具有明显的钝化效应。金刚石膜的这个特点再加上高硬度特性使金刚石膜成为多孔硅的一种潜在的钝化膜。
史伟民1,夏义本1,方志军1,王林军1,居建华1,张伟丽1,范轶敏1
(1.上海大学材料科学与工程学院,)
摘要:采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法成功地在多孔硅上沉积出均匀、致密的金刚石膜。光致发光测量表明,金刚石膜可以有效稳定多孔硅的发光波长和发光强度,具有明显的钝化效应。金刚石膜的这个特点再加上高硬度特性使金刚石膜成为多孔硅的一种潜在的钝化膜。
关键词:多孔硅; 钝化; 光致发光; 金刚石膜; MPCVD;
【全文内容正在添加中】