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157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展

来源期刊：材料导报2003年第6期

论文作者：曹望和臧春雨石春山

关键词：半导体制造业; 157nm紫外光刻技术; CaF2晶体; 双折射;

摘要：介绍了半导体制造业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料.介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势.

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曹望和¹，臧春雨²，石春山³

(1.大连海事大学数理系,大连,116000;
2.中科院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130022;
3.中科院长春应用化学研究所,长春,130022)

摘要:介绍了半导体制造业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料.介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势.

关键词:半导体制造业; 157nm紫外光刻技术; CaF2晶体; 双折射;

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