微波等离子体低温制备氮杂二氧化钒薄膜
来源期刊：功能材料2007年第5期
论文作者：刘羽 陈金民 王升高 黄志良
关键词：微波等离子体; VO2; 氮杂二氧化钒; 相变温度;
摘 要：选用V2O5为前驱物,通过在玻璃片上镀膜,采用微波等离子体增强法,在低温条件下,成功制备了氮杂二氧化钒薄膜.通过X射线衍射(XRD),FT-IR对样品进行表征,结果表明:合成的样品为多晶氮杂二氧化钒.相变温度测试结果表明:退火工艺可以降低相变温度,同时提高薄膜的结晶度;改变氮气流量,相变温度先降低后升高,当氮气流量为20ml/min时,相变温度可以降低至40℃.
刘羽1，陈金民1，王升高1，黄志良1
(1.武汉工程大学,湖北省等离子体重点实验室,湖北,武汉,430073)
摘要:选用V2O5为前驱物,通过在玻璃片上镀膜,采用微波等离子体增强法,在低温条件下,成功制备了氮杂二氧化钒薄膜.通过X射线衍射(XRD),FT-IR对样品进行表征,结果表明:合成的样品为多晶氮杂二氧化钒.相变温度测试结果表明:退火工艺可以降低相变温度,同时提高薄膜的结晶度;改变氮气流量,相变温度先降低后升高,当氮气流量为20ml/min时,相变温度可以降低至40℃.
关键词:微波等离子体; VO2; 氮杂二氧化钒; 相变温度;
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