微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射DLC膜的制备与表征
来源期刊：功能材料2004年第3期
论文作者：唐祯安 杨梅 徐军 李新 张虹霞 邓新绿
关键词：非平衡磁控溅射; 电子回旋共振; 等离子体源; 类金刚石膜;
摘 要：介绍了微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射设备的结构和工作原理,详细叙述了利用该设备制备类金刚石膜的过程.Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性;采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的微观表面形貌,均方根粗糙度大约为1.9nm,结果表明薄膜表面非常光滑;利用CERT微摩擦计进行摩擦、磨损和划痕实验,薄膜的平均摩擦系数较小,大约为0.175;DL(膜和Si衬底磨损情况的扫描电镜图片相对比,可以看到DLC膜的磨痕小的多,说明薄膜有较好的耐磨性能;划痕测试结果表明制备薄膜临界载荷大约为40mN.
唐祯安1，杨梅1，徐军2，李新1，张虹霞1，邓新绿2
(1.大连理工大学,电子工程系微系统研究中心,辽宁,大连,116024;
2.大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024)
摘要:介绍了微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射设备的结构和工作原理,详细叙述了利用该设备制备类金刚石膜的过程.Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性;采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的微观表面形貌,均方根粗糙度大约为1.9nm,结果表明薄膜表面非常光滑;利用CERT微摩擦计进行摩擦、磨损和划痕实验,薄膜的平均摩擦系数较小,大约为0.175;DL(膜和Si衬底磨损情况的扫描电镜图片相对比,可以看到DLC膜的磨痕小的多,说明薄膜有较好的耐磨性能;划痕测试结果表明制备薄膜临界载荷大约为40mN.
关键词:非平衡磁控溅射; 电子回旋共振; 等离子体源; 类金刚石膜;
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