沉积温度和退火处理对脉冲激光沉积的 ZnO∶Al 膜性能的影响
来源期刊：功能材料2005年第10期
论文作者：方国家 方斌 赵兴中 陈欣 官文杰 郭明森 吴天书
关键词：沉积温度; ZnO:Al(AZO)膜; 退火;
摘 要：利用脉冲激光沉积法制备了ZnO∶Al透明导电薄膜.通过对膜的霍尔系数测量及 AFM、XRD分析,详细研究了温度和退火处理对薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响.结果表明沉积温度影响膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.制备的薄膜均具有ZnO(002)择优取向的多晶膜.在240～310℃沉积的薄膜具有最低的电阻率,其值为6.1×10-4Ω·cm,在240℃沉积的薄膜在氩气中退火薄膜的电阻率下降为4. 7×10-4Ω·cm.所有薄膜在可见光区的平均透过率均达到了90%以上.
方国家1，方斌1，赵兴中1，陈欣1，官文杰1，郭明森1，吴天书1
(1.武汉大学 物理科学与技术学院,湖北 武汉 430072)
摘要:利用脉冲激光沉积法制备了ZnO∶Al透明导电薄膜.通过对膜的霍尔系数测量及 AFM、XRD分析,详细研究了温度和退火处理对薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响.结果表明沉积温度影响膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.制备的薄膜均具有ZnO(002)择优取向的多晶膜.在240～310℃沉积的薄膜具有最低的电阻率,其值为6.1×10-4Ω·cm,在240℃沉积的薄膜在氩气中退火薄膜的电阻率下降为4. 7×10-4Ω·cm.所有薄膜在可见光区的平均透过率均达到了90%以上.
关键词:沉积温度; ZnO:Al(AZO)膜; 退火;
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