Ge/Si多层膜热稳定性的Raman光谱研究
来源期刊:功能材料2001年第4期
论文作者:毛旭 周湘萍 张树波 杨宇
关键词:Raman光谱; Ge/Si多层膜; 退火;
摘 要:用Raman光散射的方法,观察了磁控溅射技术制备的Ge/Si系列多层膜退火处理后的备Raman峰的变化,对其峰形、峰位及峰强的变化进行讨论分析.实验结果显示:Ge/Si多层膜经700℃热处理10min后,能改善各层的晶体质量,得到较完整的多层膜的结构.
毛旭1,周湘萍1,张树波1,杨宇1
(1.云南大学材料科学与工程系,)
摘要:用Raman光散射的方法,观察了磁控溅射技术制备的Ge/Si系列多层膜退火处理后的备Raman峰的变化,对其峰形、峰位及峰强的变化进行讨论分析.实验结果显示:Ge/Si多层膜经700℃热处理10min后,能改善各层的晶体质量,得到较完整的多层膜的结构.
关键词:Raman光谱; Ge/Si多层膜; 退火;
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