化学气相沉积制备纳米结构碳化钨薄膜

马淳安¹，赵峰鸣¹，郑华均¹，朱英红¹，黄建国¹

(1.浙江工业大学,化工与材料学院,纳米科学与技术工程中心,浙江,杭州,310032;
2.浙江工业大学,之江学院,浙江,杭州,310024)

摘要:采用氟化钨(WF6)和甲烷(CH4)为前驱体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备具有纳米结构的碳化钨薄膜.采用SEM、XRD、EDS等方法表征了碳化钨薄膜的形貌、晶体结构和化学组成.通过表征,表明在前驱体混合气体中的甲烷与氟化钨气体的流量比(碳钨比)为20、基底温度为800℃的条件下得到的碳化钨薄膜是由直径为20～35nm的圆球状纳米晶构成.通过分析影响薄膜的晶体结构、化学组成的因素后,认为要得到具有纳米晶结构的碳化钨薄膜,主要应控制前驱体气体中的碳钨比以及基底温度.

关键词:碳化钨; 纳米结构薄膜; 等离子增强化学气相沉积; tungsten carbide; nanostructure thin film; PECVD;

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