Zr-N薄膜颜色变化规律的研究
来源期刊：材料热处理学报2005年第5期
论文作者：孙维连 杨钰瑛 罗蕴玲
关键词：氮化锆薄膜; 颜色调控; 磁控溅射; 中频电源;
摘 要：应用中频非平衡磁控反应溅射技术沉积氮化锆薄膜,通过对Zr-N薄膜颜色测量,绘制了氮分压为横坐标的L*,a*,b*值的影响曲线和Zr-N薄膜随氮分压变化的反射率曲线.发现随真空炉内氮分压的增大,Zr-N薄膜的相结构发生变化,薄膜颜色由银白色→浅黄色→金黄色→深红色的颜色变化规律.比较Zr-N薄膜,TiN薄膜,黄金和金合金颜色,氮分压为50%时,与纯金的色差最小.结果表明,镀膜过程中控制氩气和氮气流量的比值(Ar/N2)可以调节Zr-N膜的颜色.氮分压有比较宽的可调节范围获得金黄色.
孙维连1，杨钰瑛1，罗蕴玲2
(1.河北农业大学机电学院,河北,保定,071001;
2.天津商学院理学院,天津,300134)
摘要:应用中频非平衡磁控反应溅射技术沉积氮化锆薄膜,通过对Zr-N薄膜颜色测量,绘制了氮分压为横坐标的L*,a*,b*值的影响曲线和Zr-N薄膜随氮分压变化的反射率曲线.发现随真空炉内氮分压的增大,Zr-N薄膜的相结构发生变化,薄膜颜色由银白色→浅黄色→金黄色→深红色的颜色变化规律.比较Zr-N薄膜,TiN薄膜,黄金和金合金颜色,氮分压为50%时,与纯金的色差最小.结果表明,镀膜过程中控制氩气和氮气流量的比值(Ar/N2)可以调节Zr-N膜的颜色.氮分压有比较宽的可调节范围获得金黄色.
关键词:氮化锆薄膜; 颜色调控; 磁控溅射; 中频电源;
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