应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺

宣明¹，李加东¹，刘永顺¹，张平¹，吴一辉¹，王淑荣¹

(1.中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林长春,130033;
2.中国科学院,研究生院,北京,100039)

摘要:研究了一种可用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺.分析了微小面积电镀时出现边缘效应的问题,提出了增加牺牲结构的方法提高沉积速率并降低电镀边缘效应.通过脉冲微电镀实验,讨论了电流对电镀边缘效应的影响,同时分析了影响镀层表面质量的因素,得出了一组具有参考价值的电镀参数,电镀出了长620μm、宽500μm、厚2μm的微反射镜表面结构,经测量计算,该条件下,镍的生长速度约为0.1μm/min,表面平均粗糙度约为4.376nm.

关键词:光亮镀镍; 微反射镜; 微电镀; 边缘效应;

【全文内容正在添加中】