简介概要

反应磁控溅射(CrMoTaNbVTi)N多主元薄膜的微观组织与机械性能(英文)

来源期刊:稀有金属材料与工程2020年第8期

论文作者:冯兴国 郑玉刚 张凯锋 周晖 胡汉军

文章页码:2623 - 2629

关键词:多主元氮化物薄膜;微观结构;机械性能;摩擦学;

摘    要:采用直流反应磁控溅射方法,通过溅射镶嵌靶(CrMoTaNbV)和纯Ti靶制备了(CrMoTaNbVTi)N多主元氮化物薄膜。研究了不同氮气流量比RN(N2/(Ar+N2))对(CrMoTaNbVTi)N薄膜的微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响。结果表明,当RN=0%和RN=10%时薄膜为简单的体心立方结构,当RN=20%,30%,40%时为简单的面心立方结构。随着RN的增大,表面颗粒逐渐减小,断面柱状晶更为致密,同时(CrMoTaNbVTi)N薄膜的残余应力、膜基结合力、硬度和弹性模量逐渐增大,且当RN=40%时达到最大值,分别为-3.3 GPa, 352 m N, 25.6±1.2GPa和278.8±11.2 GPa。RN=40%制备的氮化物薄膜具有最小的比磨损率,相较合金薄膜降低了约1个数量级,表现出优异的耐磨损性能。

详情信息展示

反应磁控溅射(CrMoTaNbVTi)N多主元薄膜的微观组织与机械性能(英文)

冯兴国,郑玉刚,张凯锋,周晖,胡汉军

兰州空间技术物理研究所真空技术与物理国防科技重点实验室

摘 要:采用直流反应磁控溅射方法,通过溅射镶嵌靶(CrMoTaNbV)和纯Ti靶制备了(CrMoTaNbVTi)N多主元氮化物薄膜。研究了不同氮气流量比RN(N2/(Ar+N2))对(CrMoTaNbVTi)N薄膜的微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响。结果表明,当RN=0%和RN=10%时薄膜为简单的体心立方结构,当RN=20%,30%,40%时为简单的面心立方结构。随着RN的增大,表面颗粒逐渐减小,断面柱状晶更为致密,同时(CrMoTaNbVTi)N薄膜的残余应力、膜基结合力、硬度和弹性模量逐渐增大,且当RN=40%时达到最大值,分别为-3.3 GPa, 352 m N, 25.6±1.2GPa和278.8±11.2 GPa。RN=40%制备的氮化物薄膜具有最小的比磨损率,相较合金薄膜降低了约1个数量级,表现出优异的耐磨损性能。

关键词:多主元氮化物薄膜;微观结构;机械性能;摩擦学;

<上一页 1 下一页 >

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号