阳极线性离子源辅助磁控溅射沉积氮化钛薄膜的研究

来源期刊：材料导报2010年第10期

论文作者：卢春灿 聂朝胤 潘婧 贾晓芳 谢红梅 杨娟

文章页码：29 - 32

关键词：阳极线性离子源;磁控溅射;低温;氮化钛;结合强度;

摘    要：采用阳极线性离子源辅助磁控溅射技术,通过改变氮气流量以及离子源功率,在低温(150℃)条件下以不锈钢为基体制备了氮化钛薄膜。采用X射线衍射技术、显微硬度计、球盘式摩擦磨损仪、压痕法研究了薄膜的结构、硬度、耐磨性和结合强度,结果表明,采用阳极线性离子源辅助磁控溅射法在150℃低温条件下能制备出具有良好特性的金黄色的氮化钛薄膜。当氮气流量为20sccm、离子源功率为300W时,制备的薄膜硬度达到2039HV,且薄膜的耐磨性与结合强度最佳。离子的轰击作用使薄膜的力学性能得到了较大改善。