卤离子溶液中(NH2)2CS对Cu阳极溶解的缓蚀作用
来源期刊：腐蚀科学与防护技术2002年第4期
论文作者：李亮 陈慎豪 王超
关键词：(NH2)2CS 缓蚀 Cu 卤离子 扫描速率;
摘 要：运用恒电位稳态极化和暂态极化技术研究了(NH2)2CS在中性NaF、NaCl、NaBr及KI溶液中对金属Cu阳极溶解的缓蚀作用.通过比较Cu在卤离子溶液与含(NH2)2CS卤离子溶液中的电化学行为,解释了(NH2)2CS的缓蚀机制;并研究了扫描速率对形成CuX膜的峰电位和峰电流的影响,探讨了Cu的阳极溶解机理.
李亮1，陈慎豪2，王超1
(1.徐州师范大学化学系,徐州,221009;
2.山东大学化学系,济南,250100;
3.金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016)
摘要:运用恒电位稳态极化和暂态极化技术研究了(NH2)2CS在中性NaF、NaCl、NaBr及KI溶液中对金属Cu阳极溶解的缓蚀作用.通过比较Cu在卤离子溶液与含(NH2)2CS卤离子溶液中的电化学行为,解释了(NH2)2CS的缓蚀机制;并研究了扫描速率对形成CuX膜的峰电位和峰电流的影响,探讨了Cu的阳极溶解机理.
关键词:(NH2)2CS 缓蚀 Cu 卤离子 扫描速率;
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