聚酰亚胺的合成与研究
来源期刊：材料导报2008年第2期
论文作者：盛六四 张国斌 李承祥 王卫
关键词：聚酰亚胺; FTIR; 紫外-可见吸收光谱;
摘 要：聚酰亚胺是当前耐热等级最高的高分子材料之一,具有优良的性能,在航空航天、微电子、大规模集成电路、汽车制造业等领域具有广阔的应用前景.深入研究聚酰亚胺的合成条件和结构性能对于制备高性能的高分子材料有着重要的意义.以均苯二酐(PMDA)和4,4′-二氨基二苯醚(ODA)为单体,采用化学方法合成聚酰亚胺,利用红外光谱和紫外-可见吸收光谱对不同亚胺化温度的聚酰亚胺进行了分析研究.
盛六四1，张国斌1，李承祥1，王卫1
(1.中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥,230029)
摘要:聚酰亚胺是当前耐热等级最高的高分子材料之一,具有优良的性能,在航空航天、微电子、大规模集成电路、汽车制造业等领域具有广阔的应用前景.深入研究聚酰亚胺的合成条件和结构性能对于制备高性能的高分子材料有着重要的意义.以均苯二酐(PMDA)和4,4′-二氨基二苯醚(ODA)为单体,采用化学方法合成聚酰亚胺,利用红外光谱和紫外-可见吸收光谱对不同亚胺化温度的聚酰亚胺进行了分析研究.
关键词:聚酰亚胺; FTIR; 紫外-可见吸收光谱;
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