直流磁控溅射法制备TiO2薄膜实验研究
来源期刊：资源信息与工程2015年第4期
论文作者：蒋国林
文章页码：86 - 87
关键词：直流磁控溅射;TiO2薄膜;退火温度;
摘 要：本文利用直流磁控溅射法在不同条件下制备玻璃基Ti O2薄膜样品,并检测了薄膜的超亲水性。研究了沉积条件例如溅射总气压,氧气和氩气的相对分压,溅射功率,基片温度和后续热处理对Ti O2薄膜最佳性能的影响。实验结果显示:在较低温度下沉积的Ti O2薄膜是无定型且亲水性较差,然而,在400~500℃范围内退火过后,薄膜表面呈现超亲水性能。
蒋国林
长沙有色冶金设计研究院有限公司
摘 要：本文利用直流磁控溅射法在不同条件下制备玻璃基Ti O2薄膜样品,并检测了薄膜的超亲水性。研究了沉积条件例如溅射总气压,氧气和氩气的相对分压,溅射功率,基片温度和后续热处理对Ti O2薄膜最佳性能的影响。实验结果显示:在较低温度下沉积的Ti O2薄膜是无定型且亲水性较差,然而,在400~500℃范围内退火过后,薄膜表面呈现超亲水性能。
关键词：直流磁控溅射;TiO2薄膜;退火温度;
