直流电弧等离子体喷射法高速制备高质量纳米金刚石膜研究
来源期刊:超硬材料工程2008年第5期
论文作者:相炳坤 左敦稳 李多生 陈荣发
文章页码:1 - 4
关键词:纳米金刚石膜;直流电弧等离子体喷射法;碳氢比;
摘 要:利用直流电弧等离子体喷射法沉积装置在底径Ф65mm高5mm的Mo球面衬底上成功制备出纳米金刚石薄膜,文章研究了在稳定电弧状态下碳氢比对金刚石膜形貌的影响。通过扫描电子显微镜、原子力显微镜及Raman光谱对样品的晶粒尺寸及质量进行了表征。研究结果表明:在稳定电弧状态下,通过提高碳氢比可以在Mo球面衬底上的表面高速沉积出高质量的纳米金刚石薄膜,晶粒尺寸大约为4~80nm,平均粒径27.4nm。
相炳坤1,2,左敦稳2,李多生2,陈荣发2
1. 南京航空航天大学江苏省精密与微细制造重点实验室2. 南京航空航天大学机电学院
摘 要:利用直流电弧等离子体喷射法沉积装置在底径Ф65mm高5mm的Mo球面衬底上成功制备出纳米金刚石薄膜,文章研究了在稳定电弧状态下碳氢比对金刚石膜形貌的影响。通过扫描电子显微镜、原子力显微镜及Raman光谱对样品的晶粒尺寸及质量进行了表征。研究结果表明:在稳定电弧状态下,通过提高碳氢比可以在Mo球面衬底上的表面高速沉积出高质量的纳米金刚石薄膜,晶粒尺寸大约为4~80nm,平均粒径27.4nm。
关键词:纳米金刚石膜;直流电弧等离子体喷射法;碳氢比;