简介概要

预处理对共沉淀Si3N4-Al2O3-Y2O3复合粉体的影响

来源期刊:稀有金属材料与工程2018年第S1期

论文作者:叶超超 姜岩 茹红强 岳新艳 王伟

文章页码:298 - 301

关键词:酸洗;预氧化;氮化硅;共沉淀;

摘    要:利用FTIR、SEM,TEM等手段,研究了预处理对Si3N4粉体表面基团、Zeta电位以及共沉淀法制备Si3N4-Al2O3-Y2O3复合粉体形貌的影响。结果表明:Si3N4粉体通过酸洗+950℃预氧化处理后,可以在粉体表面形成硅氧烷(Si-O-Si)基团,硅氧烷基团在强碱环境下水解为硅烷醇(Si-OH)基团,所得基团有利于吸附Al+和Y+离子;预处理使粉体的等电点向左偏移,当酸洗+950℃预氧化处理后,粉体的p HIEP<2,粉体Zeta电位在p H=9时达到-65 m V;酸洗+950℃预氧化处理后共沉淀粉体经过950℃煅烧可以制备出S3N4-Al2O3-Y2O3复合粉体,其中复合粉体中Al2O3和Y2O3的颗粒尺寸在20100 nm。

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预处理对共沉淀Si3N4-Al2O3-Y2O3复合粉体的影响

叶超超,姜岩,茹红强,岳新艳,王伟

东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室

摘 要:利用FTIR、SEM,TEM等手段,研究了预处理对Si3N4粉体表面基团、Zeta电位以及共沉淀法制备Si3N4-Al2O3-Y2O3复合粉体形貌的影响。结果表明:Si3N4粉体通过酸洗+950℃预氧化处理后,可以在粉体表面形成硅氧烷(Si-O-Si)基团,硅氧烷基团在强碱环境下水解为硅烷醇(Si-OH)基团,所得基团有利于吸附Al+和Y+离子;预处理使粉体的等电点向左偏移,当酸洗+950℃预氧化处理后,粉体的p HIEP<2,粉体Zeta电位在p H=9时达到-65 m V;酸洗+950℃预氧化处理后共沉淀粉体经过950℃煅烧可以制备出S3N4-Al2O3-Y2O3复合粉体,其中复合粉体中Al2O3和Y2O3的颗粒尺寸在20100 nm。

关键词:酸洗;预氧化;氮化硅;共沉淀;

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