NiTi形状记忆合金表面辉光离子氮化层的结构与性能
来源期刊：机械工程材料2008年第1期
论文作者：李浩 朱敏 袁斌 黄沙 高岩
关键词：NiTi形状记忆合金; 辉光离子氮化; TiN; Ti2Ni; 耐腐蚀性能;
摘 要：为改善NiTi形状记忆合金表面的生物相容性,采用辉光离子氮化的方法在其表面制备了氮化层,利用多种手段对其表面氮化层的显微组织结构以及表面性能进行了研究.结果表明:经过900℃辉光离子氮化后,不仅在NiTi形状记忆合金表面形成了致密、均匀的TiN层,而且在基体与TiN层之间还形成了均匀的Ti2Ni过渡层,且随着氮化时间的延长,膜层及过渡层的厚度都随之增加.生成的氮化层大大提高了NiTi形状记忆合金的耐腐蚀性能.
李浩1，朱敏1，袁斌1，黄沙1，高岩1
(1.华南理工大学机械工程学院,广东广州,510640)
摘要:为改善NiTi形状记忆合金表面的生物相容性,采用辉光离子氮化的方法在其表面制备了氮化层,利用多种手段对其表面氮化层的显微组织结构以及表面性能进行了研究.结果表明:经过900℃辉光离子氮化后,不仅在NiTi形状记忆合金表面形成了致密、均匀的TiN层,而且在基体与TiN层之间还形成了均匀的Ti2Ni过渡层,且随着氮化时间的延长,膜层及过渡层的厚度都随之增加.生成的氮化层大大提高了NiTi形状记忆合金的耐腐蚀性能.
关键词:NiTi形状记忆合金; 辉光离子氮化; TiN; Ti2Ni; 耐腐蚀性能;
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