工艺参数对磁控溅射ZrN膜耐腐蚀性能的影响

孙维连^1,2，程越¹，王会强^1,2，李新领^1,2，孙铂^1,2

1. 河北农业大学机电工程学院2. 河北省轻金属合金材料工程技术研究中心

摘 要：为寻求真空磁控溅射ZrN膜耐蚀性与其溅射工艺间的规律,在1Cr18Ni9Ti不锈钢表面以不同的工艺参数真空磁控溅射了系列ZrN膜。通过中性盐雾试验确定了不同工艺参数所得ZrN膜的耐蚀性等级。结果表明:ZrN膜耐蚀性随N2流量的增加先增加,但超过15 mL/min后,膜的耐蚀性反而下降;ZrN膜耐蚀性随反应温度升高而增强;ZrN膜的耐蚀性随反应时间的增加越来越好,但超过15 min后,膜的耐蚀性不再增强;以ZrN膜的耐蚀性为依据,最佳溅射工艺参数为N2流量15 mL/min,反应时间15 min,反应温度200℃。

关键词：真空磁控溅射;工艺参数;ZrN膜层;耐蚀性;