Ti1-xAlxN涂层LPCVD过程模拟中的热力学计算
来源期刊：硬质合金2013年第6期
论文作者：王少卿 陈响明 杜勇 王社权
文章页码：297 - 301
关键词：CVD;Ti1-xAlxN涂层;热力学计算;
摘 要：本文通过Thermo-Calc相图热力学计算软件建立了包含亚稳Fcc-Ti1-x Alx N相的Ti-Al-N三元体系的热力学模型,并对Ti1-x Alx N涂层的LPCVD（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）过程进行了计算模拟。研究了AlCl3,NH3和H2等反应气体成分变化对涂层中的Al含量的影响,理论预测结果与文献报道的实验结果吻合良好。利用计算模拟手段探究了富Al-Ti1-x Alx N涂层的沉积过程,并预测了富Al-Ti1-x Alx N涂层中的Al含量随反应气体成分以及沉积温度改变的变化情况。发现适当增加AlCl3、NH3/H2值及沉积温度均可提高涂层中的Al含量。
王少卿1，陈响明2，杜勇1，王社权2
1. 中南大学粉末冶金国家重点实验室2. 株洲钻石切削刀具股份有限公司
摘 要：本文通过Thermo-Calc相图热力学计算软件建立了包含亚稳Fcc-Ti1-x Alx N相的Ti-Al-N三元体系的热力学模型,并对Ti1-x Alx N涂层的LPCVD（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）过程进行了计算模拟。研究了AlCl3,NH3和H2等反应气体成分变化对涂层中的Al含量的影响,理论预测结果与文献报道的实验结果吻合良好。利用计算模拟手段探究了富Al-Ti1-x Alx N涂层的沉积过程,并预测了富Al-Ti1-x Alx N涂层中的Al含量随反应气体成分以及沉积温度改变的变化情况。发现适当增加AlCl3、NH3/H2值及沉积温度均可提高涂层中的Al含量。
关键词：CVD;Ti1-xAlxN涂层;热力学计算;
