电镀工艺条件与高饱和磁感应CONiFe软磁薄膜的性能
来源期刊：有色金属2006年第1期
论文作者：王振廷 方光旦 邓福铭 赵国刚 雷仁贵
关键词：金属材料; 高Bs软磁膜; 电沉积; 钴镍铁合金;
摘 要：研究电沉积钴镍铁合金工艺条件如电流密度、pH和温度以及镀层厚度对膜层性能的影响.用振动样品磁强计测试膜层的矫顽力Hc、磁化强度Ms及磁滞回线,用高频电感法测试膜层的磁导率μi,用四探针法测试膜层的电阻率ρ.结果表明,膜层的电磁性能与镀覆工艺条件相关,在最佳镀覆工艺条件下(电流密度10mA/cm2,pH=2.8,施镀温度25℃,时间10min)所得合金镀层光亮、致密,有较好电磁特性,Bs达1.9T,矫顽力Hc为1.15Oe,电阻率为45μΩ·cm,在1MHz下磁导率μi为602.
王振廷1，方光旦2，邓福铭1，赵国刚1，雷仁贵1
(1.中国矿业大学(北京校区;
2.中国科学院计算技术研究所,北京,100080)
摘要:研究电沉积钴镍铁合金工艺条件如电流密度、pH和温度以及镀层厚度对膜层性能的影响.用振动样品磁强计测试膜层的矫顽力Hc、磁化强度Ms及磁滞回线,用高频电感法测试膜层的磁导率μi,用四探针法测试膜层的电阻率ρ.结果表明,膜层的电磁性能与镀覆工艺条件相关,在最佳镀覆工艺条件下(电流密度10mA/cm2,pH=2.8,施镀温度25℃,时间10min)所得合金镀层光亮、致密,有较好电磁特性,Bs达1.9T,矫顽力Hc为1.15Oe,电阻率为45μΩ·cm,在1MHz下磁导率μi为602.
关键词:金属材料; 高Bs软磁膜; 电沉积; 钴镍铁合金;
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