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HFCVD金刚石膜过程的气氛模拟与分析

来源期刊:无机材料学报2003年第1期

论文作者:廖源 戚学贵 王冠中 陈则韶 常超

关键词:热丝法化学气相沉积; 金刚石膜; 气相化学; 前驱基团;

摘    要:对热丝法化学气相沉积金刚石膜过程的气氛进行了模拟与分析.使用GRI-Mech3.0甲烷燃烧过程C/H/O/N四元体系热化学反应机理和动力学数据,模拟并分析了HFCVD金刚石膜的C/H气相化学反应,通过对反应流的简单模拟得到了衬底位置气相组成,结果与前人实验数据吻合.探讨了灯丝温度、碳源浓度和碳源种类等因素变化对衬底位置气相组成的影响.结果表明甲基是金刚石膜生长最主要的前驱基团,其作用远高于乙炔,而超平衡态原子氢的存在对金刚石膜的质量至关重要.

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HFCVD金刚石膜过程的气氛模拟与分析

廖源1,戚学贵2,王冠中1,陈则韶2,常超1

(1.中国科学技术大学物理系,合肥,230026;
2.中国科学技术大学工程科学学院,合肥,230027)

摘要:对热丝法化学气相沉积金刚石膜过程的气氛进行了模拟与分析.使用GRI-Mech3.0甲烷燃烧过程C/H/O/N四元体系热化学反应机理和动力学数据,模拟并分析了HFCVD金刚石膜的C/H气相化学反应,通过对反应流的简单模拟得到了衬底位置气相组成,结果与前人实验数据吻合.探讨了灯丝温度、碳源浓度和碳源种类等因素变化对衬底位置气相组成的影响.结果表明甲基是金刚石膜生长最主要的前驱基团,其作用远高于乙炔,而超平衡态原子氢的存在对金刚石膜的质量至关重要.

关键词:热丝法化学气相沉积; 金刚石膜; 气相化学; 前驱基团;

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