简介概要

磁场应用在硅晶体生长过程中的研究进展

来源期刊：材料导报2013年第13期

论文作者：张发云罗玉峰李云明王发辉胡云彭华厦

文章页码：15 - 19

关键词：多晶硅;磁场;杂质;分凝行为;数值模拟;

摘要：论述了磁场技术应用于硅晶体生长中的基本概况,探讨了磁场影响硅晶体生长的机制,重点阐述了各种磁场的分类、基本原理及其在硅晶体生长的应用,并归纳总结了国内外磁场应用于硅晶体生长中的研究现状。另外,对硅晶体生长中杂质的分凝行为和数值模拟作了简要介绍,并展望了磁场应用于硅晶体生长的发展前景。

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张发云^1,2，罗玉峰^1,2，李云明^1,2，王发辉^1,2，胡云^1,2，彭华厦²

1. 新余学院新能源科学与工程学院2. 新余学院江西省高等学校硅材料重点实验室

关键词：多晶硅;磁场;杂质;分凝行为;数值模拟;