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金红石型TiO2(110)表面吸附TiCl4的微观机理

来源期刊:材料导报2018年第20期

论文作者:黄俊 李荣兴 谢刚 田林 杨妮 俞小花 李威

文章页码:3524 - 3530

关键词:密度泛函理论;晶核生长;氧空位;表面吸附;

摘    要:采用密度泛函理论平面波赝势方法研究了TiCl4分子在TiO2(110)表面桥位氧上的吸附,对稳定吸附构型的吸附能、电荷密度、差分电荷密度、电子态密度、Mulliken电荷布居等进行计算和分析。研究结果表明,TiCl4在完整晶胞表面不能吸附;在有氧空位的晶胞表面,TiCl4以面心向下吸附最稳定,吸附过程为放热。当表面氧空位密度为12.5%、25%时,面心向下吸附方式的吸附能分别为-29.780 9kJ·mol-1和-48.641 9kJ·mol-1,表明氧空位密度越高,吸附强度越强;带隙从1.304eV分别减小到0.074eV、0.015eV,能带结构的带隙宽度变窄,表明氧空位密度越高,带隙宽度越窄;TiCl4分子向晶胞表面转移的电荷分别为0.2eV、0.26eV,说明随着表面氧空位密度增加,TiCl4分子向晶胞表面转移的电荷量增加,表面对分子的氧化作用越强。

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金红石型TiO2(110)表面吸附TiCl4的微观机理

黄俊1,李荣兴1,谢刚2,3,田林2,3,杨妮2,3,俞小花1,李威1

1. 昆明理工大学冶金与能源工程学院2. 昆明冶金研究院3. 共伴生有色金属资源加压湿法冶金技术国家重点实验室

摘 要:采用密度泛函理论平面波赝势方法研究了TiCl4分子在TiO2(110)表面桥位氧上的吸附,对稳定吸附构型的吸附能、电荷密度、差分电荷密度、电子态密度、Mulliken电荷布居等进行计算和分析。研究结果表明,TiCl4在完整晶胞表面不能吸附;在有氧空位的晶胞表面,TiCl4以面心向下吸附最稳定,吸附过程为放热。当表面氧空位密度为12.5%、25%时,面心向下吸附方式的吸附能分别为-29.780 9kJ·mol-1和-48.641 9kJ·mol-1,表明氧空位密度越高,吸附强度越强;带隙从1.304eV分别减小到0.074eV、0.015eV,能带结构的带隙宽度变窄,表明氧空位密度越高,带隙宽度越窄;TiCl4分子向晶胞表面转移的电荷分别为0.2eV、0.26eV,说明随着表面氧空位密度增加,TiCl4分子向晶胞表面转移的电荷量增加,表面对分子的氧化作用越强。

关键词:密度泛函理论;晶核生长;氧空位;表面吸附;

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