铝诱导非晶硅薄膜低温晶化及结构研究
来源期刊:功能材料2001年第4期
论文作者:王长安 曾祥斌 周雪梅 赵伯芳 饶瑞 徐重阳
关键词:金属诱导; 非晶硅薄膜; 低温晶化; 多晶硅薄膜;
摘 要:介绍了一种非晶硅薄膜低温晶化的新工艺--金属诱导非晶硅薄膜低温晶化.在非晶硅膜上蒸镀金属铝薄膜,而后于氮气保护中退火,实现了非晶硅薄膜的低温(<600℃)晶化.利用X射线衍射、光学显微镜及透射电镜等测试方法,研究了不同退火工艺对非晶硅薄膜低温晶化的影响,确定了所制备的是多晶硅薄膜.
王长安1,曾祥斌1,周雪梅1,赵伯芳1,饶瑞1,徐重阳1
(1.华中理工大学电子科学与技术系,)
摘要:介绍了一种非晶硅薄膜低温晶化的新工艺--金属诱导非晶硅薄膜低温晶化.在非晶硅膜上蒸镀金属铝薄膜,而后于氮气保护中退火,实现了非晶硅薄膜的低温(<600℃)晶化.利用X射线衍射、光学显微镜及透射电镜等测试方法,研究了不同退火工艺对非晶硅薄膜低温晶化的影响,确定了所制备的是多晶硅薄膜.
关键词:金属诱导; 非晶硅薄膜; 低温晶化; 多晶硅薄膜;
【全文内容正在添加中】