简介概要

In0.53Ga0.47As/InP(001)薄膜表面重构的研究

来源期刊:材料导报2015年第18期

论文作者:周海月 赵振 郭祥 魏文喆 王一 黄梦雅 罗子江 丁召

文章页码:55 - 123

关键词:STM;In0.53Ga0.47As薄膜;As4BEP;表面重构;

摘    要:通过扫描隧道显微镜(STM)以及反射式高能电子衍射(RHEED)对在不同As4等效束流压强(As4BEP)下生长的In0.53Ga0.47As薄膜表面重构进行研究。研究发现在两种As4BEP条件下,样品表面重构都以(4×3)/(n×3)为主,并存在c(6×4)、β2(2×4)以及α2(2×4)三种重构类型。和低As4BEP条件相比,高As4BEP条件下反射式高能电子衍射仪图像更加清晰,高分辨率的STM扫描图片也能够分辨出各种重构类型。对高分辨率的STM扫描图像进行进一步分析得到,随着As4BEP的升高,β2(2×4)重构类型明显减少,这是由于高As4BEP减少In偏析,从而抑制β2(2×4)重构的产生。

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In0.53Ga0.47As/InP(001)薄膜表面重构的研究

周海月1,赵振1,郭祥1,魏文喆1,王一1,黄梦雅1,罗子江1,2,丁召1

1. 贵州大学贵州省微纳电子与软件技术重点实验室2. 贵州财经大学教育管理学院

摘 要:通过扫描隧道显微镜(STM)以及反射式高能电子衍射(RHEED)对在不同As4等效束流压强(As4BEP)下生长的In0.53Ga0.47As薄膜表面重构进行研究。研究发现在两种As4BEP条件下,样品表面重构都以(4×3)/(n×3)为主,并存在c(6×4)、β2(2×4)以及α2(2×4)三种重构类型。和低As4BEP条件相比,高As4BEP条件下反射式高能电子衍射仪图像更加清晰,高分辨率的STM扫描图片也能够分辨出各种重构类型。对高分辨率的STM扫描图像进行进一步分析得到,随着As4BEP的升高,β2(2×4)重构类型明显减少,这是由于高As4BEP减少In偏析,从而抑制β2(2×4)重构的产生。

关键词:STM;In0.53Ga0.47As薄膜;As4BEP;表面重构;

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