退火处理对Zno/Si异质结光电转换特性的影响
来源期刊：材料导报2010年第4期
论文作者：梁会琴 张伟英 傅竹西 刘照军 刘振中
关键词：退火; 异质结; 光电转换; annealing; heterojunction; photovoltaic effect;
摘 要：采用直流反应溅射方法在P型Si(100)衬底上生长掺Al的ZnO薄膜,并研究退火处理对ZnO薄膜性质的影响.XRD测量结果表明,ZnO薄膜为六方纤锌矿结构,退火后薄膜的晶粒长大,晶界减少;暗态I-V特性曲线表明,Zno/Si异质结具有明显的整流特性,退火后由于晶粒间界减少和空位浓度降低使反向漏电流降低1个量级;此外,退火处理能在一定程度上改善异质结的光伏效应,使其转换效率提高.
梁会琴1，张伟英1，傅竹西2，刘照军1，刘振中1
(1.洛阳师范学院物理与电子信息学院,洛阳,471022;
2.中国科学技术大学物理系,合肥,230026)
摘要:采用直流反应溅射方法在P型Si(100)衬底上生长掺Al的ZnO薄膜,并研究退火处理对ZnO薄膜性质的影响.XRD测量结果表明,ZnO薄膜为六方纤锌矿结构,退火后薄膜的晶粒长大,晶界减少;暗态I-V特性曲线表明,Zno/Si异质结具有明显的整流特性,退火后由于晶粒间界减少和空位浓度降低使反向漏电流降低1个量级;此外,退火处理能在一定程度上改善异质结的光伏效应,使其转换效率提高.
关键词:退火; 异质结; 光电转换; annealing; heterojunction; photovoltaic effect;
【全文内容正在添加中】
