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CSD制备涂层导体缓冲层的技术进展

来源期刊:材料导报2009年第19期

论文作者:王耀 于泽铭 李成山 卢亚锋 周廉 李金山

关键词:高温超导; 涂层导体; 缓冲层; 化学溶液沉积;

摘    要:化学溶液沉积(CSD)技术在制备高温超导涂层导体方面具有易操作和低成本的优点.简述了CSD技术的基本原理以及在不同结构缓冲层制备方面的应用,并展望了涂层导体缓冲层技术的发展趋势.

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CSD制备涂层导体缓冲层的技术进展

王耀1,于泽铭2,李成山2,卢亚锋2,周廉3,李金山1

(1.西北工业大学凝固技术国家重点实验室,西安,710072;
2.西北有色金属研究院,西安,710016;
3.西北工业大学凝固技术国家重点实验室,西安710072;
4.西北有色金属研究院,西安710016)

摘要:化学溶液沉积(CSD)技术在制备高温超导涂层导体方面具有易操作和低成本的优点.简述了CSD技术的基本原理以及在不同结构缓冲层制备方面的应用,并展望了涂层导体缓冲层技术的发展趋势.

关键词:高温超导; 涂层导体; 缓冲层; 化学溶液沉积;

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