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氩流量对氧化钒薄膜直流磁控溅射制备的影响

来源期刊：材料导报2007年增刊第2期

论文作者：蒋亚东王涛吴志明魏雄邦

关键词：磁控溅射; 氧化钒薄膜; 溅射电压; 石英晶振频率;

摘要：在氧化钒薄膜的直流磁控溅射制备中,氩流量是影响沉膜工艺以及薄膜织构和性能的重要因素之一.从氧化钒薄膜制备角度出发,研究了纯氩环境以及氧流量恒定的氩氧混合环境中溅射电压和薄膜沉积速率随氩流量的变化.实验结果有助于对氧化钒薄膜制备工艺进行优化,为氩气流量的选择提供参考.

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蒋亚东¹，王涛¹，吴志明¹，魏雄邦¹

(1.电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054)

摘要:在氧化钒薄膜的直流磁控溅射制备中,氩流量是影响沉膜工艺以及薄膜织构和性能的重要因素之一.从氧化钒薄膜制备角度出发,研究了纯氩环境以及氧流量恒定的氩氧混合环境中溅射电压和薄膜沉积速率随氩流量的变化.实验结果有助于对氧化钒薄膜制备工艺进行优化,为氩气流量的选择提供参考.

关键词:磁控溅射; 氧化钒薄膜; 溅射电压; 石英晶振频率;

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