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层状ZrB2-SiC-G陶瓷在1300℃下的抗氧化性及其残余强度的研究

来源期刊:无机材料学报2017年第9期

论文作者:刘晓燕 魏春城 牛金叶 杨赞中 于长新

文章页码:961 - 966

关键词:ZrB2;层状陶瓷;氧化;残余强度;

摘    要:采用流延–层叠–热压的方法制备了不同石墨界面层的层状ZrB2-SiC-G超高温陶瓷,研究其在1300℃下氧化0.510 h的氧化行为以及氧化时间对室温残余强度的影响,观察了增重量随氧化时间的变化,并对其物相和形貌进行了分析。结果表明,石墨界面层中添加40vol%ZrB2和10vol%SiC制备的层状ZrB2-SiC-G超高温陶瓷,室温弯曲强度为670 MPa,断裂韧性为13.7 MPa·m1/2,氧化10 h后弯曲强度仍达429MPa,断裂韧性仍达10.25 MPa·m1/2,优异的残余强度是由于表面形成了致密的SiO2玻璃层而阻止了材料内部被氧化。

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层状ZrB2-SiC-G陶瓷在1300℃下的抗氧化性及其残余强度的研究

刘晓燕,魏春城,牛金叶,杨赞中,于长新

山东理工大学材料科学与工程学院

摘 要:采用流延–层叠–热压的方法制备了不同石墨界面层的层状ZrB2-SiC-G超高温陶瓷,研究其在1300℃下氧化0.510 h的氧化行为以及氧化时间对室温残余强度的影响,观察了增重量随氧化时间的变化,并对其物相和形貌进行了分析。结果表明,石墨界面层中添加40vol%ZrB2和10vol%SiC制备的层状ZrB2-SiC-G超高温陶瓷,室温弯曲强度为670 MPa,断裂韧性为13.7 MPa·m1/2,氧化10 h后弯曲强度仍达429MPa,断裂韧性仍达10.25 MPa·m1/2,优异的残余强度是由于表面形成了致密的SiO2玻璃层而阻止了材料内部被氧化。

关键词:ZrB2;层状陶瓷;氧化;残余强度;

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