磁控溅射制备ZnO缓冲层薄膜的微观结构和光学性能

来源期刊：稀有金属材料与工程2014年第9期

论文作者：王玉伟 刘平 李伟 刘新宽 马凤仓 陈小红 何代华

文章页码：2203 - 2208

关键词：衬底温度;溅射气压;ZnO缓冲层;微观结构;光学性能;

摘    要：研究了衬底温度、溅射气压对磁控溅射沉积ZnO缓冲层薄膜的微观结构、表面形貌和光学性能的影响。结果表明,衬底温度、溅射气压对ZnO缓冲层薄膜表面形貌、晶粒尺寸、禁带宽度和光学透过率等有较大影响。综合分析得出最佳的制备ZnO缓冲层薄膜的工艺为250℃、0.6 Pa。在此工艺下制备的ZnO缓冲层薄膜具有很好的ZnO(002)面c轴择优取向,结构致密、尺寸均匀,禁带宽度为3.24 eV,可见光平均透过率为86.93%,符合作CIGS太阳能电池缓冲层的要求。