电子束气相沉积的研究进展
来源期刊:钢铁钒钛2020年第4期
论文作者:赖奇 李俊翰 吴恩辉 崔晏 李亮 廖先杰
文章页码:76 - 81
关键词:电子束气相沉积;镀膜;真空;
摘 要:介绍了电子束真空气相沉积(EBPVD)镀膜技术的优点、国内外发展现状,并对其关键技术:材料的高速电子束蒸发过程在真空和工艺参数控制下的物质的沉积、成分和组织结构的控制等方面进行了分析。简要论述了其硬件条件,以便为钢钛复合材料的制备提供解决思路。
赖奇,李俊翰,吴恩辉,崔晏,李亮,廖先杰
攀枝花学院钒钛学院
摘 要:介绍了电子束真空气相沉积(EBPVD)镀膜技术的优点、国内外发展现状,并对其关键技术:材料的高速电子束蒸发过程在真空和工艺参数控制下的物质的沉积、成分和组织结构的控制等方面进行了分析。简要论述了其硬件条件,以便为钢钛复合材料的制备提供解决思路。
关键词:电子束气相沉积;镀膜;真空;