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纳米二氧化硅/聚酰亚胺耐电晕薄膜的研究

来源期刊：绝缘材料2003年第6期

论文作者：梁冰刘立柱张营堂雷清泉

关键词：超声机械共混; 纳米二氧化硅; 聚酰亚胺薄膜; 耐电晕性;

摘要：通过超声机械混合方法制备纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合耐电晕薄膜,并对其耐电晕性进行测量.用红外光谱(IR)和原子力显微镜(AFM)观察无机纳米粒子的分散情况及其电晕前后变化.结果表明:纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合薄膜耐电晕性比普通的聚酰亚胺薄膜高.

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梁冰¹，刘立柱¹，张营堂¹，雷清泉²

(1.哈尔滨理工大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150040;
2.哈尔滨理工大学,电气与电子工程学院,黑龙江,哈尔滨,150040)

摘要:通过超声机械混合方法制备纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合耐电晕薄膜,并对其耐电晕性进行测量.用红外光谱(IR)和原子力显微镜(AFM)观察无机纳米粒子的分散情况及其电晕前后变化.结果表明:纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合薄膜耐电晕性比普通的聚酰亚胺薄膜高.

关键词:超声机械共混; 纳米二氧化硅; 聚酰亚胺薄膜; 耐电晕性;

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