半导体器件生产需重视超纯水净化系统本身的污染
来源期刊：世界有色金属1996年第5期
论文作者：张重敏
摘 要：半导体器件生产需重视超纯水净化系统本身的污染１概述超纯水技术一直在不断改进。要获得超纯水的条件极其复杂，其原因是：某些去除污染技术实际上也同时增加了另一种污染，或者说被此间相互干扰。本文论述了超纯水的技术条件，其污染物对半导体生产的重大影响；考察了通...
张重敏
摘 要：半导体器件生产需重视超纯水净化系统本身的污染１概述超纯水技术一直在不断改进。要获得超纯水的条件极其复杂，其原因是：某些去除污染技术实际上也同时增加了另一种污染，或者说被此间相互干扰。本文论述了超纯水的技术条件，其污染物对半导体生产的重大影响；考察了通...
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