硅钨酸共振瑞利散射光谱法测定氧化苦参碱

来源期刊：分析试验室2012年第11期

论文作者：杨金香 李俊波 杨小丽 贺艳斌

文章页码：97 - 99

关键词：硅钨酸;氧化苦参碱;共振瑞利散射;

摘    要：在0.1 mol/L HCl反应介质中,单独的硅钨酸(TS)与氧化苦参碱(OM)的共振瑞利散射(RRS)都非常微弱。当二者反应形成缔合物时将导致RRS显著增强,其最大散射峰位于393 nm处。OM在1.5～26.4μg/mL范围内其浓度与RRS强度成线性关系,检出限为2.3 ng/mL。方法已用于苦参素胶囊中OM的含量测定。并对反应机理及RRS与吸收光谱特征进行了比较研究。