简介概要

AlN压电薄膜研究进展

来源期刊：材料导报2003年增刊第1期

论文作者：刘吉延斯永敏

关键词：AlN; 压电薄膜; 择优取向; 脉冲激光沉积;

摘要：介绍了AlN压电薄膜的研究现状,着重突出了AlN薄膜的制备方法、择优取向结构及表面形貌等方面的研究,尤其对脉冲激光沉积工艺(PLD)镀膜的基本原理和过程、分别采用周期价键链(PBC)理论和断键模型对薄膜晶面择优取向机理的分析作了较为详细的探讨.最后简单讨论了AlN压电薄膜研究的发展趋势.

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刘吉延¹，斯永敏¹

(1.国防科技大学航天与材料工程学院,长沙,410073)

摘要:介绍了AlN压电薄膜的研究现状,着重突出了AlN薄膜的制备方法、择优取向结构及表面形貌等方面的研究,尤其对脉冲激光沉积工艺(PLD)镀膜的基本原理和过程、分别采用周期价键链(PBC)理论和断键模型对薄膜晶面择优取向机理的分析作了较为详细的探讨.最后简单讨论了AlN压电薄膜研究的发展趋势.

关键词:AlN; 压电薄膜; 择优取向; 脉冲激光沉积;

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