氩气压强对柔性衬底ZnO∶Al薄膜性能的影响
来源期刊:材料导报2014年第20期
论文作者:李姗 杨恢东 汪文明 雷飞 闵文骏
文章页码:6 - 9
关键词:氩气压强;柔性衬底;ZnO∶Al薄膜;直流磁控溅射;
摘 要:采用直流磁控溅射技术在柔性衬底聚酰亚胺(PI)上制备ZnO∶Al透明导电薄膜,研究氩气压强对样品薄膜结构、形貌和光电性能的影响,并与玻璃衬底进行了对比。结果表明:所有制备的ZAO薄膜都是六方纤锌矿结构且具有高度的c轴择优取向;氩气压强对样品薄膜的性能有较大影响,具体表现在:随着压强的增大,晶粒尺寸先增大后减小,方块电阻值先减小后增大,最小值出现在压强为12Pa,其值为12Ω/sq,600~800nm薄膜的相对透射率为94%,高于玻璃衬底的相对透射率。
李姗1,杨恢东1,2,汪文明1,雷飞1,闵文骏1
1. 暨南大学信息与科学技术学院2. 浙江大学硅材料国家重点实验室
摘 要:采用直流磁控溅射技术在柔性衬底聚酰亚胺(PI)上制备ZnO∶Al透明导电薄膜,研究氩气压强对样品薄膜结构、形貌和光电性能的影响,并与玻璃衬底进行了对比。结果表明:所有制备的ZAO薄膜都是六方纤锌矿结构且具有高度的c轴择优取向;氩气压强对样品薄膜的性能有较大影响,具体表现在:随着压强的增大,晶粒尺寸先增大后减小,方块电阻值先减小后增大,最小值出现在压强为12Pa,其值为12Ω/sq,600~800nm薄膜的相对透射率为94%,高于玻璃衬底的相对透射率。
关键词:氩气压强;柔性衬底;ZnO∶Al薄膜;直流磁控溅射;