最优实验条件下碳纳米管膜的场发射特性

来源期刊：功能材料2010年第S2期

论文作者：樊志琴 蔡根旺 李瑞 黄浩 张君德 王建星 康广生

文章页码：229 - 231

关键词：正交设计方法;碳纳米管;MPCVD;场发射;拉曼光谱;

摘    要：利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过正交设计方法综合研究了反应温度、气压、沉积时间、甲烷流量对碳纳米管膜场发射性能的影响。结果表明,不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,其中起主要作用的是反应温度和气压。保持氢气的流量(100mL/min)不变,温度为700～800℃时,反应室压强为6.5kPa时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8V/μm,发射点分布密集、均匀。