柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备Ti-N-C黑色硬质膜
来源期刊：材料保护2007年第4期
论文作者：康光宇 马胜歌
关键词：黑色硬质膜; Ti-N-C; 柱弧离子镀; 中频溅射; 非平衡磁控溅射;
摘 要：采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜.采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能.结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深.
康光宇1，马胜歌1
(1.深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心,广东,深圳,518029)
摘要:采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜.采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能.结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深.
关键词:黑色硬质膜; Ti-N-C; 柱弧离子镀; 中频溅射; 非平衡磁控溅射;
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