基于氧化铁模板原位制备Ni/Fe-LDHs/Fe薄膜及其性能研究
来源期刊：功能材料2019年第5期
论文作者：杜宝中 陆宁 张倩岚 王妙娟
文章页码：5160 - 5165
关键词：氧化铁模板;LDHs薄膜;插层组装;缓蚀;紫外阻隔;
摘 要：采用模版原位生长技术,以NH3·H2O调节Ni（NO3）2-NH4NO3反应溶液pH值,形成镍氨配离子达到缓慢释放Ni2+,实现了在阳极氧化铁模板（AFO/Fe）上制备Ni/Fe-NO3-LDHs/Fe薄膜前驱体;然后,通过离子交换反应将磺基水杨酸阴离子（SSA）插层制备了Ni/Fe-SSA-LDHs/Fe复合薄膜。借助XRD、FT-IR、SEM、UV-Vis、TG/DTA及电化学测试等手段对LDHs薄膜结构及性能进行了表征与分析。结果显示,SSA阴离子插入LDHs层间,插层距由0.9051 nm扩至1.1837 nm,水滑石晶片主要以c轴平行于氧化铁模版生长。该薄膜表现出优异的耐蚀性和紫外阻隔性能。
杜宝中1，陆宁2，张倩岚1，王妙娟1
1. 西安理工大学应用化学系2. 中国石油乌鲁木齐石化分公司炼油厂
摘 要：采用模版原位生长技术,以NH3·H2O调节Ni（NO3）2-NH4NO3反应溶液pH值,形成镍氨配离子达到缓慢释放Ni2+,实现了在阳极氧化铁模板（AFO/Fe）上制备Ni/Fe-NO3-LDHs/Fe薄膜前驱体;然后,通过离子交换反应将磺基水杨酸阴离子（SSA）插层制备了Ni/Fe-SSA-LDHs/Fe复合薄膜。借助XRD、FT-IR、SEM、UV-Vis、TG/DTA及电化学测试等手段对LDHs薄膜结构及性能进行了表征与分析。结果显示,SSA阴离子插入LDHs层间,插层距由0.9051 nm扩至1.1837 nm,水滑石晶片主要以c轴平行于氧化铁模版生长。该薄膜表现出优异的耐蚀性和紫外阻隔性能。
关键词：氧化铁模板;LDHs薄膜;插层组装;缓蚀;紫外阻隔;
