不同Ti含量的W-Ti-N复合膜的微结构及性能研究
来源期刊：材料工程2014年第12期
论文作者：赵淑芳 喻利花 马冰洋 许俊华
文章页码：23 - 27
关键词：磁控溅射;W-Ti-N复合膜;微结构;力学性能;摩擦性能;
摘 要：采用多靶反应磁控溅射技术制备一系列不同Ti含量的W-Ti-N复合膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等检测方法对薄膜的微结构和力学性能进行表征。采用UMT-2功能摩擦试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对W-Ti-N复合膜的摩擦性能进行评价,同时,探讨薄膜的致硬机理和摩擦机制。结果表明:Ti含量（原子分数,下同）为5%23.48%时,薄膜硬度处于峰值区,硬度值最高可达39GPa,摩擦因数在0.4左右。当Ti含量高于23.48%时,硬度随着Ti含量增加而下降,摩擦因数随Ti含量的增加而升高。
赵淑芳，喻利花，马冰洋，许俊华
江苏科技大学先进焊接技术江苏省重点实验室
摘 要：采用多靶反应磁控溅射技术制备一系列不同Ti含量的W-Ti-N复合膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等检测方法对薄膜的微结构和力学性能进行表征。采用UMT-2功能摩擦试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对W-Ti-N复合膜的摩擦性能进行评价,同时,探讨薄膜的致硬机理和摩擦机制。结果表明:Ti含量（原子分数,下同）为5%23.48%时,薄膜硬度处于峰值区,硬度值最高可达39GPa,摩擦因数在0.4左右。当Ti含量高于23.48%时,硬度随着Ti含量增加而下降,摩擦因数随Ti含量的增加而升高。
关键词：磁控溅射;W-Ti-N复合膜;微结构;力学性能;摩擦性能;
