金属薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系

徐可为¹，唐武²，邓龙江²

(1.西安交通大学,陕西,西安,710049;
2.电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054)

摘要:针对磁控溅射Au金属薄膜,从实验角度研究了该薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系,并对结果进行了分析.结果表明:薄膜电阻率随着表面粗糙度及残余应力的增加而增大.分析认为,晶体取向可能在金属薄膜力学性能和功能性之间有某种联系,并从应变能角度给予了解释.该结果为进一步探讨薄膜力学性能和功能特性的内在关系提供了研究基础.

关键词:金属薄膜; 电阻率; 表面粗糙度; 残余应力;

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