退火对CoFe/IrMn双层膜结构和磁性能的影响
来源期刊：功能材料2010年第1期
论文作者：李国华 王寅岗 祁先进 李子全
关键词：退火; 织构; 界面粗糙度; 交换偏置场; annealing; texture; interface roughness; exchange bias field;
摘 要：采用高真空直流磁控溅射的方法制备了结构为//Ta(5nm)/Co_(75)Fe_(25)(5nm)/Ir_(20)Mn_(80)(12nm)/Ta(8nm)的双层膜,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM) 和振动样品磁强计(VSM)研究了退火对双层膜的结构及磁性能的影响;并通过样品在反向饱和场下停留不同的时间,研究了退火对双层膜的磁稳定性的影响.结果表明,退火使得IrMn(111)织构减弱,表面/界面粗糙度增大,交换偏置场减小,矫顽力增加,退火降低了双层膜的磁稳定性.
李国华1，王寅岗2，祁先进2，李子全2
(1.保山市发展和改革委员会,云南,保山,678000;
2.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京210016)
摘要:采用高真空直流磁控溅射的方法制备了结构为//Ta(5nm)/Co_(75)Fe_(25)(5nm)/Ir_(20)Mn_(80)(12nm)/Ta(8nm)的双层膜,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM) 和振动样品磁强计(VSM)研究了退火对双层膜的结构及磁性能的影响;并通过样品在反向饱和场下停留不同的时间,研究了退火对双层膜的磁稳定性的影响.结果表明,退火使得IrMn(111)织构减弱,表面/界面粗糙度增大,交换偏置场减小,矫顽力增加,退火降低了双层膜的磁稳定性.
关键词:退火; 织构; 界面粗糙度; 交换偏置场; annealing; texture; interface roughness; exchange bias field;
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