SnS2纳米薄膜的制备及结构和光学特性
来源期刊：材料科学与工程学报2009年第1期
论文作者：杨晶 李健 白海平 卢建丽
文章页码：83 - 214
关键词：真空热蒸发;热处理;SnS2纳米薄膜;微结构、光学特性;
摘 要：采用真空热蒸发法,在玻璃衬底上制备纳米SnS2薄膜。研究不同Sn和S配比及不同热处理条件对薄膜性能的影响。实验给出采用Sn∶S=1∶1.5摩尔比混合粉末制备的薄膜,经T=430℃,t=40min氮气保护热处理可获得性能良好的SnS2纳米多晶薄膜。薄膜呈n型、表面结构较致密,平均晶粒尺寸为77nm,直接光学带隙约为2.02eV。
杨晶，李健，白海平，卢建丽
摘 要：采用真空热蒸发法,在玻璃衬底上制备纳米SnS2薄膜。研究不同Sn和S配比及不同热处理条件对薄膜性能的影响。实验给出采用Sn∶S=1∶1.5摩尔比混合粉末制备的薄膜,经T=430℃,t=40min氮气保护热处理可获得性能良好的SnS2纳米多晶薄膜。薄膜呈n型、表面结构较致密,平均晶粒尺寸为77nm,直接光学带隙约为2.02eV。
关键词：真空热蒸发;热处理;SnS2纳米薄膜;微结构、光学特性;
