HFCVD金刚石薄膜在Mo基体表面的形核
来源期刊：材料科学与工程学报2008年第4期
论文作者：游小龙 余志明 王婷 丰杰
关键词：HFCVD; 形核密度; 金刚石薄膜; Mo基体;
摘 要：采用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法在Mo基体上沉积金刚石薄膜,使用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对薄膜样品进行分析检测,研究了表面形核密度随碳源浓度的变化.结果表明:随着碳源浓度增加表面形核密度增大,当碳源浓度达到3%时,表面形核密度质量最佳,当浓度进一步增大时,形核密度下降;随着碳源浓度增加,生长加快,当生长过快时影响形核过程,形核密度下降.
游小龙1，余志明1，王婷1，丰杰1
(1.中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083)
摘要:采用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法在Mo基体上沉积金刚石薄膜,使用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对薄膜样品进行分析检测,研究了表面形核密度随碳源浓度的变化.结果表明:随着碳源浓度增加表面形核密度增大,当碳源浓度达到3%时,表面形核密度质量最佳,当浓度进一步增大时,形核密度下降;随着碳源浓度增加,生长加快,当生长过快时影响形核过程,形核密度下降.
关键词:HFCVD; 形核密度; 金刚石薄膜; Mo基体;
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