磁控溅射Fe-N薄膜的结构和性能
来源期刊:材料研究学报2000年第6期
论文作者:赵春生 田中卓 李华飚 常香荣 顾有松 乔祎 李丹 周剑平
关键词:磁控溅射; Fe-N膜; 饱和磁化强度; 矫顽力;
摘 要:研究了氮流量对磁控溅射Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.加氮薄膜的软磁性能明显优于纯铁的.当氮的流量为1.0mL·min-1时,矫顽力Hc达到最小值205A/m.当氮流量为0.8mL.min-1时,饱和磁化强度达到Ms=2.36T.在Fe-N薄膜中未发现γ′-Fe4N和α″-Fe16N2.
赵春生1,田中卓1,李华飚1,常香荣1,顾有松1,乔祎2,李丹1,周剑平1
(1.北京科技大学;
2.北京科技大学新金属材料重点实验室)
摘要:研究了氮流量对磁控溅射Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.加氮薄膜的软磁性能明显优于纯铁的.当氮的流量为1.0mL·min-1时,矫顽力Hc达到最小值205A/m.当氮流量为0.8mL.min-1时,饱和磁化强度达到Ms=2.36T.在Fe-N薄膜中未发现γ′-Fe4N和α″-Fe16N2.
关键词:磁控溅射; Fe-N膜; 饱和磁化强度; 矫顽力;
【全文内容正在添加中】