硬盘磁记录介质的现状与发展
来源期刊：材料导报2000年第11期
论文作者：王翔 蔡长波 王可
关键词：硬盘; 磁记录介质; 记录面密度; 薄膜; 溅射;
摘 要：讨论了现有介质、新介质的材料与结构,以及其工艺技术的现状.并展望了高密度硬盘磁记录介质的未来.指出高密度、高信噪比S/N的硬盘介质要求有高的矫顽力和小的磁记录畴.
王翔1，蔡长波1，王可1
(1.华中理工大学电子科学与技术系,武汉,430074)
摘要:讨论了现有介质、新介质的材料与结构,以及其工艺技术的现状.并展望了高密度硬盘磁记录介质的未来.指出高密度、高信噪比S/N的硬盘介质要求有高的矫顽力和小的磁记录畴.
关键词:硬盘; 磁记录介质; 记录面密度; 薄膜; 溅射;
【全文内容正在添加中】
